NEWS / 摘要
1nm 之后晶体管怎么走?泛林集团探索 SA-CFET 架构,SRAM 单元面积较 N3 缩小 52.7%
来源摘要
IT之家 10 月 5 日消息,随着先进制程不断向 1nm 及以下节点推进,传统 GAA 纳米片晶体管在漏电、迁移率、寄生电阻以及制造工艺波动等方面面临越来越大的挑战。当地时间 9 月 29 日,全球前三的晶圆制造设备厂商泛林集团(Lam Research)提出一种自对准互补场效应晶体管(SA-CFET)架构,有望将 CMOS 晶体管继续推进至 10 Å(1nm)及以下。
摘要由机器生成(来自来源站点),可能存在偏差; 本站不转载全文,请以原文为准。