日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，号称回收率达 50%

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IT之家 10 月 6 日消息，据科技媒体 Tom's Hardware 今天报道，日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 现已推出新型氖气回收系统 hTGM，用于氟化氩（ArF）准分子激光器。据报道，这套系统可实现 50% 氖气回收率，未来调整系统配置后，有望进一步提升回收效率。该技术有望弥补俄乌冲突后的芯片供应链缺口。…

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