消息称佳能计划到 2029 年将后端光刻机产能提升 50%

来源摘要

IT之家 10 月 21 日消息，日媒《日刊工业新闻》当地时间昨日报道称，Canon（佳能）计划到 2029 年将其面向半导体后端工艺的光刻机产能较当前水平提升 50%。▲ FPA-8000iW佳能正在开发用于先进封装工艺的 i 线光刻设备。该企业还开发了一种分辨率达 0.8μm (800nm) 的大尺寸基板光刻机…

摘要由机器生成（来自来源站点），可能存在偏差； 本站不转载全文，请以原文为准。